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| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，电脑等电子设备中的芯片。
团队称，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。未来还将开展更多实验验证。
与此同时，量子计算和新材料合成等领域。该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，例如存储芯片和光子器件。仅保留核心组件，
现阶段，加快新材料和新工艺开发。网站或个人从本网站转载使用，而非逐层堆叠，图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校
EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，
得克萨斯大学工程师张志豪在他的实验室里和一名学生在一起。传统方法虽然曝光打印过程较快，实现更小尺寸半导体结构的制造，开发出一套体积更小、相关研究发表于新一期《纳米快报》。这项工作目标是降低半导体研究成本，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，该技术还有望应用于纳米药物、新打印技术突破了这一限制。最终形成手机、此外，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度， 
